طبق گزارشهایی که از تایوان به گوش میرسد، شرکت TSMC ظرفیت تولید تراشههایی با فرآیند تولید لیتوگرافی - تلفن تعمیرگاه مجاز یخچال ساید آدمیرال تجریش - پنج نانومتری را به - تلفن تعمیرگاه مجاز یخچال ساید آدمیرال تجریش - حداکثر رسانده - تلفن تعمیرگاه مجاز یخچال ساید آدمیرال تجریش - است و گویا بیماری کرونا نیز روی - تلفن تعمیرگاه مجاز یخچال ساید آدمیرال تجریش - روند - تلفن تعمیرگاه مجاز یخچال ساید آدمیرال تجریش - تولید تراشههای جدید تاثیری نخواهد گذاشت. با این حال، تولید تراشههایی با لیتوگرافی سه نانومتری این شرکت به تاخیر خواهد افتاد.
شرکت TSMC تقریبا تمامی برنامههای خود را تغییر داده است و با ایجاد تاخیر ششماهه در تولید تراشههای سه نانومتری، ظرفیت تولید انبوه تراشههای پنج - تلفن تعمیرگاه مجاز یخچال ساید آدمیرال تجریش - نانومتری را به حداکثر رسانده است؛ البته امکان دارد تولید تراشههای سه نانومتری شرکت TSMC با - تلفن تعمیرگاه مجاز یخچال ساید آدمیرال تجریش - تاخیر بیشتری نیز مواجه شود. دلیل این امر نیز اختصاص یافتن اکثر تجهیزات کارخانههای TSMC به تولید تراشههای پنج نانومتری است.
علاوه بر موارد ذکرشده، گسترش بیماری کرونا و درنتیجه خودقرنطینگی کارکنان شرکتها و تعطیلی بسیاری از کارخانهها در سراسر دنیا بهتاخیر افتادن تولید تراشههای شرکت TSMC کمک فراوانی میکند. با این حساب انتظار میرود که روند تولید تراشههای سه نانومتری TSMC از دسامبر سال ۲۰۲۰ شروع شود.
در حال - تلفن تعمیرگاه مجاز یخچال ساید آدمیرال تجریش - حاضر انتظار میرود که تراشههای TSMC با لیتوگرافی سه نانومتری به سال ۲۰۲۲ موکول شود و تا قبل از آن شاهد عرضه چنین محصولی به بازار نباشیم. روند تولید و آزمایش تراشههای سه نانومتری نیز در کارخانهای از شرکت تایوانی صورت میگیرد که وظیفه تولید و آزمایش تراشههای پنج نانومتری را به عهده دارد. گزارشها نشان میدهد که دو فاز از کارخانه به تولید تراشههای پنج نانومتری و دو فاز دیگر نیز به تولید تراشههای سه نانومتری اختصاص یافته است.
مقامات شرکت TSMC میگویند که تراشههای پنج نانومتری این شرکت - تلفن تعمیرگاه مجاز یخچال ساید آدمیرال تجریش - در مرحلهای از تولید قرار داشته است که شیوع بیماری کرونا - تلفن تعمیرگاه مجاز یخچال ساید آدمیرال تجریش - نتوانسته روی روند تولید آن تاثیری بگذارد. در فرآیند تولید تراشههای پنج نانومتری از لیتوگرافی به وسیله اشعه ماوراء بنفش یا EUVL استفاده میشود. در این فرآیند که از روشهای تصویرگیری پرتوافکنی به حساب میآید، اشعهای با طول موج بین ۱۳/۴ تا ۱۳/۵ نانومتر به بیش از ۱۰ لایه از تراشه تابانده میشود. استفاده از چنین فرآیندی به کاهش هزینه تولید تراشه میانجامد و همچنین زمان تولید نیز کاهش مییابد.
درنهایت به این نکته باید اشاره کرد که محصولاتی مجهز به تراشههای ساختهشده با فرآیند لیتوگرافی پنج نانومتری طبق برنامه وارد بازار خواهند شد؛ اما بهنظر میرسد ۶ ماه یا شاید بیشتر با زمان عرضه محصولات قدرتگرفته از تراشههای سه نانومتری شرکت TSMC طبق برنامه قبلی فاصله خواهیم داشت.